失效分析是對于電子元件失效原因進行診斷,在進行失效分析的過程中,往往需要借助儀器設(shè)備,以及化學類手段進行分析,以確認失效模式,判斷失效原因,研究失效機理,提出改善預防措施。其方法可以分為有損分析,無損分析,物理分析,化學分析等。其中在進行微觀形貌檢測的時候,尤其是需要觀察斷面或者內(nèi)部結(jié)構(gòu)時,需要用到離子研磨儀+掃描電鏡結(jié)合法,來進行失效分析研究。
離子研磨儀目前是普遍使用的制樣工具,可以進行不同角度的剖面切削以及表面的拋光和清潔處理,以制備出適合半導體故障分析的 SEM 用樣品。
離子研磨儀
TECHNOORG LINDA
1
掃描電鏡
Phenom SEM
2
??
離子研磨儀的基本原理
晶片失效分析思路和方法
案例分享 1
優(yōu)先判斷失效的位置
鎖定失效分析位置后,決定進行離子研磨儀進行切割
離子研磨儀中進行切割
切割后的樣品,放大觀察
放大后發(fā)現(xiàn)故障位置左右不對稱
進一步放大后,發(fā)現(xiàn)故障位置擠壓變形,開裂,是造成失效的主要原因
變形開裂位置
放大倍數(shù):20,000x
變形開裂位置
放大倍數(shù):40,000x
IC封裝測試失效分析
案例分享 2
對失效位置進行切割
離子研磨儀中進行切割
位置1. 放大后發(fā)現(xiàn)此處未連接。放大倍數(shù):30,000x
位置2. 放大后發(fā)現(xiàn)此處開裂。放大倍數(shù):50,000x
PCB/PCBA失效分析
案例分享 3
離子研磨儀
SC-2100
適用于離子束剖面切削、表面拋光
可預設(shè)不同切削角度制備橫截面樣品
可用于樣品拋光或最終階段的細拋和清潔
超高能量離子槍用于快速拋光
低能量離子槍適用后處理的表面無損細拋和清潔
操作簡單,嵌入式計算機系統(tǒng),全自動設(shè)定操作
冷卻系統(tǒng)標準化,應(yīng)用于多種類樣本
高分辨率彩色相機實現(xiàn)實時監(jiān)控拋光過程
技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng) 管理登陸 sitemap.xml